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概況半導體(tǐ)晶體(tǐ)清洗機的設計、選購(gòu)、制造、檢驗和測試均按照相關(guān)國家、半導體(tǐ)行業标準執行,但(dàn)合同中或技術文件中另有規定的除外。外購(gòu)配件執行相應的國家标準、行業标準、規範及企業标準;半導體(tǐ)晶體(tǐ)清洗機包括設備主體(tǐ)、電氣控制部分(fēn)、化(huà)學工藝槽、純水清洗槽等;并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等。 功能(néng)半導體(tǐ)晶體(tǐ)清洗機主要适用于半導體(tǐ)晶體(tǐ)的清洗工作(zuò),設備采用全封閉結構,全面完善的防腐防酸措施,保證工件的潔淨;特有的氮氣泡鼓泡系統提高清洗品質及清洗效率;根據不同要求,可自由選擇幹燥方式; PLC自動監控,全伺服機械驅動系統,性能(néng)穩定; 國内領先自動補液技術,提高清洗效率;德國進口材質輥輪傳輸方式快(kuài)速穩定,降低(dī)了(le)産品“碎片率”。 工藝半導體(tǐ)晶體(tǐ)清洗機清洗工藝流程: 第一(yī)槽:超聲波粗洗(超聲波結合清洗液對産品進行全方位清洗,剝離污漬) 第二槽:超聲波精洗(使用清水進行二次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質) 第三槽:超聲波精洗(使用清水進行三次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質) 第四槽:高壓噴淋漂洗(使用清水用高壓水的方式去除産品上(shàng)殘留的清洗液,保護産品) 第五槽:超聲波漂洗(使用清水進行一(yī)次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質和去除清洗液) 第六槽:超聲波漂洗(使用清水進行二次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質和去除清洗液) 第七槽:超聲波漂洗(使用清水進行三次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質和去除清洗液) 第八槽:超聲波漂洗(使用清水進行四次清洗,進一(yī)步清洗殘留雜質和去除清洗液) 第九槽:慢(màn)接脫水幹燥(在慢(màn)拉的作(zuò)用下(xià)工作(zuò)表面不會出現(xiàn)水珠,在烘幹時(shí)不會有水印) 第十槽:熱風(fēng)循環烘幹(對産品就(jiù)行烘幹,防止出現(xiàn)水斑和氧化(huà)) 第十一(yī)槽:熱風(fēng)循環烘幹(對産品就(jiù)行烘幹,防止出現(xiàn)水斑和氧化(huà)) 參數設備包括:設備主體(tǐ)、電氣控制部分(fēn)、化(huà)學工藝槽、純水清洗槽等;并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等; 主體(tǐ):設備為(wèi)半敞開式,主體(tǐ)使用進口WPP15和10mm厚闆材,結構設計充分(fēn)考慮長期工作(zuò)在酸腐蝕環境,堅固耐用,雙層防漏,機台底盤采用德國産瓷白PP闆,熱焊接而成,可長期工作(zuò)在酸堿腐蝕環境中; 骨 架:鋼骨架+PP德國勞施領闆組合而成,防止外殼鏽蝕; 台 面:高度為(wèi)850mm; 儲物區:位于工作(zuò)台面左側,約280mm寬,儲物區地闆有漏液孔和底部支撐; 安全門:前側下(xià)開透明安全門,腳踏控制; 工藝槽:模組化(huà)設計,腐蝕槽、純水沖洗槽放(fàng)置在一(yī)個(gè)統一(yī)的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成,杜絕機台的滲漏危險; 管路(lù)系統:位于設備下(xià)部,所有工藝槽、管路(lù)、閥門部分(fēn)均有清晰的标簽注明;藥液管路(lù)采用PFA管,純水管路(lù)采用白色NPP噴淋管,化(huà)學腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放(fàng); 電氣保護:電器(qì)控制、氣路(lù)控制和工藝槽控制部份在機台頂部電控區,電氣元件有充分(fēn)的防護以免酸霧腐蝕以保障設備性能(néng)運行穩定可靠;所有可能(néng)與酸霧接觸的電氣及線路(lù)均經PFA防腐隔絕處理(lǐ),電氣櫃CDA/N2充氣保護其中的電器(qì)控制元件; 排 風(fēng):後部排風(fēng)和下(xià)沉式設計,風(fēng)量可調節,對操作(zuò)員(yuán)有安全保護; 送 風(fēng):設備頂部有FFU百級淨化(huà)送風(fēng)裝置,設備沿前側闆鑲嵌入牆體(tǐ),保證後上(shàng)部送風(fēng); 照 明:工作(zuò)區頂部配有雙光日光燈照明; 水汽槍:機台前部配備有PTFE純水槍和PTFE氮氣槍各1隻置于右側,方便操作(zuò)員(yuán)手工清洗槽體(tǐ)或工件; 機台支腳:有滑輪裝置及固定裝置,并且有高低(dī)調整及鎖定功能(néng)。 安全保障:完善的報(bào)警和保護設計,排風(fēng)壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖,直觀的操作(zuò)界面,清晰的信息提示,保障了(le)生(shēng)産、工藝控制和安全性三色警示燈置于機台上(shàng)方明顯處。
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